三星半导体研究所最近的一份招聘通知中提到，将开发一种透光率为92%的EUV薄膜。

　　此前报道显示，三星电子已经开发出透光率高达88%的EUV薄膜，而且已经可以大规模生产。这意味着这家韩国科技巨头已经达成上述目标，并提出了一个新的发展路线图，将透光率提高4个百分点。

　　三星电子还开始对High-NA EUV薄膜的研究，这被称为下一代的EUV工艺，该工艺的开发将基于新材料。该公司宣布将与外部研究机构合作，开发和评估由碳纳米管和石墨烯制成的EUV薄膜。该公司还计划挑选一些研究人员，负责为该公司自行开发的纳米石墨薄膜(NGF)设计大规模生产设施。

　　EUV薄膜是半导体光刻工艺中的必备材料，它们可以作为一种覆盖物，阻止外来物质附着在掩模上，可以最大限度地减少生产过程中的缺陷并延长昂贵的掩模的寿命来帮助降低成本。

　　然而，由于EUV光被大多数材料吸收的特性，想要商业化很困难。尽管三星电子已经提高了薄膜的技术水平，但专家们判断将这种材料大规模量产的时机还未成熟。

　　三星电子的竞争对手台积电从2019年其已在其量产线上使用自己研发的EUV薄膜。这家中国台湾代工巨头在2021年宣布，与2019年相比，其EUV薄膜产能提高了20倍。